一、 KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備用途：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、 KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)：KDH-500

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-30直聯(lián)泵、JTFB-1200分子泵、高真空氣動(dòng)擋板閥和各種管路真空系統(tǒng)

4、冷態(tài)極限真空度：6.7x10E-4Pa

5、熔煉電流：額定電流≤500A

6、引弧方式：高頻脈沖引弧

7、熔煉坩堝：共有5工位，有3個(gè)￠70*35半球形工位窩，***容重（樣品重量）50-130(克），2個(gè)￠50*35一個(gè)吸鑄工位，一個(gè)電磁攪拌工位。帶翻料機(jī)構(gòu)，可以翻料重熔和轉(zhuǎn)移樣品

8、帶吸鑄工位，容重（樣品重量）50-80(克）吸鑄模具滑配設(shè)計(jì)方便拆卸。

9、工作氣體：Ar氣；

10、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

11、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜

12、爐體側(cè)部開(kāi)門(mén)，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，門(mén)上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。